據合肥日報報道，國內首個專用于量子芯片生產的MLLAS-100激光退火儀（以下簡稱“激光退火儀”）已研制成功，可解決量子芯片位數增加時的工藝不穩(wěn)定因素，像“手術刀”一樣精準剔除量子芯片中的“瑕疵”，增強量子芯片在向多比特擴展時的性能，從而進一步提升量子芯片的良品率。
報道顯示，該激光退火儀由合肥本源量子計算科技有限責任公司完全自主研發(fā)，可達到百納米級超高定位精度，對量子芯片中單個量子比特進行局域激光退火，從而定向控制修飾量子比特的頻率參數，解決多比特擴展中比特頻率擁擠的問題，助力量子芯片向多位數擴展。
安徽省量子計算工程研究中心副主任賈志龍表示，這臺激光退火儀擁有正向和負向兩種激光退火方式，可以在生產過程中靈活調節(jié)多比特超導量子芯片中量子比特的關鍵參數。同時，該設備還可用于半導體集成電路芯片、材料表面局域改性處理等領域，目前已在國內第一條量子芯片生產線上投入使用。
